财讯：传ASML已基本完成 1nm 光刻机设计 国产光刻机如何办？

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原标题: asml基本完成了1nm光刻机设计国产光刻机吗？

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asml挑战摩尔定律的极限，基本完成了1nm的光刻机设计！

说到光刻机，绝对是国产芯片之路的痛点，也是停止芯片的关键。 现在国产只能做90nm的光刻机。 很多人怀疑上海微电子是不是突破了22nm。 好的。 但是，上海微电子完成的是22nm光刻机的研究开发商，还没有量产，预计2021年将交付第一批国产22nm的光刻机。

最近，来自asml的消息再次唤醒了我们，不太乐观。 根据现在的进展情况，国产光刻机和asml之间至少有几十年的差距。

imec和asml一直强力合作开发euv光刻技术，前几天imec企业CEO宣布，通过与asml企业的合作，将新一代高分辨率euv光刻技术na euv光刻技术商业化。 也强调了工艺规模继续缩小到1nm以下。

海外很多半导体企业声称摩尔定律已经结束，但我不认为asml没有放弃。 根据透露的消息，进展似乎还很小。 国产雕刻机的路很重啊。

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来源：千龙新闻网